铟靶是指以铟为主要成分的溅射靶材，是一种在材料表面镀膜过程中用于提供铟源的材料。在真空溅射镀膜工艺中，铟靶材在高能粒子的轰击下，铟原子被溅射出来并沉积在基底材料表面，形成所需的铟薄膜。

微观结构：铟靶晶粒尺寸一般需维持在 10-50 微米区间，密度高于 7.31g/cm³，热导率保持在 81.8W/(m・K) 以上，这些技术参数直接决定了其在真空溅射过程中的沉积效率和薄膜质量。

显示技术领域：广泛应用于 LCD、OLED、AMOLED 等平板显示器件中作为透明电极，确保显示设备既能透光显示图像，又能导电传输信号。

触控技术领域：电容式和电阻式触摸屏中，ITO 作为电极材料，其透明性和导电性决定了触控设备的灵敏度和视觉效果。