铟靶是指以铟为主要成分的溅射靶材,是一种在材料表面镀膜过程中用于提供铟源的材料。在真空溅射镀膜工艺中,铟靶材在高能粒子的轰击下,铟原子被溅射出来并沉积在基底材料表面,形成所需的铟薄膜。
良好的机械和热学特性:硬度较高,在研磨、抛光过程中不易被划伤,保证了薄膜表面的平整性;同时能够承受较高的温度而不发生分解或结构破坏,在高温环境中的抗裂性和耐用性良好,确保了薄膜在溅射和高温条件下的稳定性。
热等静压(HIP)工艺:在高温和高压环境下进行烧结,能够显著提高材料的致密度,减少材料中的孔隙,改善材料的微观结构,使得 ITO 靶材具有更高的电导率和机械强度,但该工艺成本较为昂贵。
靶材原料(占比约 60%):
用于制备 ITO(氧化铟锡)靶材,生产 LCD、OLED 显示面板的透明导电膜(如手机屏幕、电视面板)。
光伏领域:作为 CIGS(铜铟镓硒)薄膜太阳能电池的关键原料,提升光电转换效率。